Pulin Technology, una empresa china, ha enviado a uno de sus clientes su primer equipo de vanguardia utilizando la tecnología de litografía de nanoimpresión (NIL). Este logro es parte de un esfuerzo más amplio de China para desarrollar sus propias máquinas de litografía avanzada.
Apoyo gubernamental
El gobierno de Xi Jinping ha respaldado a empresas como Pulin Technology con subvenciones multimillonarias. En septiembre de 2023, se aprobó una partida de 41.000 millones de dólares para apoyar a las compañías que producen equipos para la fabricación de circuitos integrados.
Tecnología y comparación
La tecnología NIL, aunque no es nueva, ofrece una alternativa a las máquinas de litografía de ultravioleta extremo (UVE) de ASML. La litografía NIL es más sencilla y económica, pero también más lenta debido a la ejecución de varios procesos secuenciales. Canon, que ha trabajado en NIL desde 2004, asegura que sus equipos pueden fabricar chips equiparables a los de 5 nm producidos con máquinas UVE.
Costos y futuro
Un equipo NIL de Canon cuesta alrededor de 15 millones de dólares, diez veces menos que una máquina UVE de ASML. Esto podría hacer que la tecnología NIL sea una opción más accesible para la fabricación de chips avanzados. Aunque aún no se conoce el costo de los equipos NIL de Pulin, es razonable prever que tendrán un coste similar al de Canon.
Conclusión
El desarrollo de equipos de litografía NIL por parte de empresas chinas como Pulin Technology es un paso importante hacia la independencia tecnológica de China en la fabricación de chips. Aunque aún quedan desafíos por superar, este avance muestra el potencial de la tecnología NIL para competir con las máquinas UVE de ASML.
